Das IMS ist mit einem Poster auf der SPIE Advanced Lithography 2024 in San Jose, USA vertreten.
Conference Presentation Mittwoch, 28. Februar 2024, 17:30-19:00 Uhr
„Impact of e-beam lithography and data preparation optimization on optical performance of integrated photonic waveguides“ M. Greul1, K. Edelmann1, E. Linn2, F. Weißenborn 2, J. Hartbaum1, I. Stolberg2, S. Fasold2, U. Weidenmueller2 1 Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Stuttgart, Germany 2 Vistec Electron Beam GmbH, Jena
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