SPIE Advanced Lithography 2024

Veröffentlicht am 24. Januar 202424. Januar 2024

SPIE Advanced Lithography 2024

25. – 29. Februar 2024. SPIE 2024, San Jose, USA

Das IMS ist mit einem Poster auf der SPIE Advanced Lithography 2024 in San Jose, USA vertreten.

Conference Presentation
Mittwoch, 28. Februar 2024, 17:30-19:00 Uhr

„Impact of e-beam lithography and data preparation optimization on optical performance of integrated photonic waveguides“
M. Greul¹, K. Edelmann¹, E. Linn², F. Weißenborn ², J. Hartbaum¹, I. Stolberg², S. Fasold², U. Weidenmueller²
1 Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Stuttgart, Germany
2 Vistec Electron Beam GmbH, Jena

Weitere Informationen zur SPIE Advanced Lithography 2024 finden Sie auf folgender Website: https://spie.org/conferences-and-exhibitions