Das Institut für Mikroelektronik Stuttgart erhält eine Zuwendung im Rahmen von EFRE

Das Institut für Mikroelektronik Stuttgart erhält eine Zuwendung im Rahmen des Europäischen Fonds für regionale Entwicklung (EFRE) – Innovation und Energiewende – REACT-EU als Teil der Reaktion der Union auf die COVID-19-Pandemie finanziert Förderperiode 2014-2020 im Rahmen der Verwaltungsvorschrift EFRE – Erweiterung von Innovationskapazitäten – EVI 2014-2020 des Ministeriums für Wirtschaft, Arbeit und Tourismus.

Die Bewilligung erfolgt im Wege der Anteilsfinanzierung zur Projektförderung für das Vorhaben Nanopatterning Cluster+.

Die Anschaffung des Elektronenstrahllithographiesystems erfolgte mit Hilfe von Mitteln der Europäischen Union zur Unterstützung der Krisenbewältigung im Zusammenhang mit der COVID-19- Pandemie und ihrer sozialen Folgen und der Vorbereitung einer grünen, digitalen und stabilen Erholung der Wirtschaft (REACT-EU), ausgereicht über das EFRE-Programm Baden-Württemberg 2014-2020.

Das Elektronenstrahllithographiesystem Vistec SB255 ermöglicht die automatische Belichtung von Masken bis zu 7 Zoll und Wafern bis zu 200 mm Durchmesser. Zur Anwendung kommt dabei die sogenannte Formstrahltechnik, bei der durch die elektronen-optische Abbildung zweier Blenden beliebige Rechtecke und 45° Dreiecke mit einer Abmessung von maximal 2 µm x 2 µm auf einmal belichtet werden können. Diese Technik ermöglicht, in Verbindung mit „Write-on-the-fly“ und Vector Scan, eine im Vergleich zu Punktstrahlschreibern deutlich schneller Belichtung von orthogonalen und diagonalen Strukturen. Andersartig geformte Strukturen werden entsprechend angenähert belichtet. Zusätzlich ist das System mit der sogenannten Zellprojektion ausgestattet. Damit können auch komplexere Designblöcke mit einer maximalen Ausdehnung von 2 µm x 2 µm im Block belichtet werden. Der mit dieser Schreibweise erreichte Gewinn in der Schreibzeit ermöglicht die Herstellung von Strukturgeometrien, die mit dem bisherigen System nicht realisierbar waren.