SPIE Advanced Lithography 2021
SPIE Advanced Lithography 2021
Ort: San Jose, California, United States, Digital Forum, Online Only
Das IMS ist mit einem Vortrag bei der SPIE Advanced Lithography 2021 San Jose, USA vertreten.
Session 6: Novel Resist Concepts and Track Processes
„Multidimensional process optimization of a negative e-beam photoresist for silicon-waveguide manufacturing“
Markus Greul, Holger Sailer, Mathias Kaschel, Joachim N. Burghartz
Der Vortrag wird die ganze Woche vom 22. bis 26. Februar 2021 zu sehen sein.
Weitere Informationen zur SPIE Advanced Lithography finden Sie auf der Website