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IMS CHIPS auf der SPIE Advanced Lithography 2008

24. - 29. Februar 2008

Hochauflösende Nano-Imprint-Templates für "Dual-Damascene"-Anwendungen sind das Thema eines Vortrags von Dr. Mathias Irmscher auf der wichtigsten internationalen Konferenz für Lithografie in der Halbleiter-Industrie in San Jose.
Das Institut für Mikroelektronik Stuttgart leistet bei der Erforschung und Weiterentwicklung modernster Herstellungsverfahren für Mikrochips wesentliche Beiträge. Ein vielversprechender Ansatz in der "next generation lithography" zur rationellen Herstellung von komplexen Schaltungsstrukturen ist die Nano-Imprint-Methode. Hierbei werden mittels einer Prägetechnik Strukturen im Nanometerbereich erzeugt, ähnlich einem strukturuerten Stempel.

Der Vortrag
"High Resolution Nanoimprint Templates for Dual Damascene – Fabrication and Imprint Results "

Die Autoren
Mathias Irmscher, Joerg Butschke, Corinna Koepernik, Lorenz Nedelmann, Marcus Pritschow, Christian Reuter, Holger Sailer, IMS Chips, Stuttgart, Deutschland;
Jordan Owens, Ken Sotoodeh, Ron Carpio, Bruce Wilks, Jeff Wetzel, ATDF Inc. Austin, TX, USA;
Brook Chao, Frank Palmieri, Wei-Lun Jen, C. Grant Willson, University of Texas, Austin, TX, USA.


Weitere Informationen finden Sie unter: spie.org/advanced-lithography.xml

Ort: Convention Center, San Jose, California, USA