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Nanoimprint Lithografie - Projekt FANTASTIC

14. Juni 2007

Die Nanoimprint Lithografie ist ein potenzieller Kandidat für die Next Generation Lithography (NGL) der Mikroelektronik. Auf Grund der Vorteile bezüglich Auflösung und Kosteneffizienz wurde sie auch in die Semiconductor Technology Roadmap (ITRS) für den 32 nm Knoten und darunter aufgenommen.
Das MEDEA+ FANTASTIC-Projekt zielt auf die Entwicklung und Bewertung der UV-Nanoimprint Lithografie für hohe Auflösung und hohen Durchsatz in der Mikroelektronik. Dazu werden alle Aspekte dieser Technologie untersucht, von den Imprint Tools über die Herstellung der Templates bis zur CMOS-Integration.
Das IMS ist verantwortlich für den Fertigungsprozess der Nanoimprint-Templates.

Weitere Informationen finden Sie unter www.fantastic-project.org