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Projektstart SeNaTe - Seven Nanometer Technology

21. Mai 2016

Das Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS) arbeitet in den Arbeitspaketen Lithografie und Maskeninfrastruktur mit. Im Arbeitspaket Lithographie sollen ultragenaue Diffraktive Optische Elemente (DOE) für die Oberflächenprüfung von EUV-Spiegeln entwickelt werden, während im Paket Maskeninfrastruktur neue Konzepte zur Maskenarchitektur erforscht werden.
Das ECSEL Projekt wird von einem parallel laufenden BMBF Projekt begleitet.