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Die ersten 8 EUV Vollfeldmasken für ASML gefertigt

10. August 2005

Am Institut für Mikroelektronik Stuttgart wurden im zweiten Halbjahr 2005 die ersten 8 EUV Vollfeld-Masken für die alpha- Scannertool Qualifizierung gefertigt und geliefert. Nach der Absorber- und Bufferätzung konnten Minimalstrukturen im Bereich von 100 nm erreicht werden.