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Das EXEPT Projekt erhält den CATRENE Innovation Award 2012

04. Dezember 2012

Das von ASML geführte europäische EXEPT-Projekt („Extreme UV Lithography Entry Point Technology Development“), Teil des CATRENE-Clusters, wurde auf dem European Nanoelectronics Forum München mit dem Innovation Award 2012 ausgezeichnet.
Die Partner hatten im Rahmen des Verbundprojektes das für den Lithografieprozess benötigte Projektionssystem sowie die erforderliche Infrastruktur erarbeitet. So stellte die Carl Zeiss SMT GmbH (Oberkochen) unter anderem ein leistungsfähigeres Projektionsobjektiv, ein hochflexibles, energetisch verlustfreies Beleuchtungssystem sowie zu deren Qualifizierung erforderliche Messsysteme höchster Präzision bereit. IMS Chips (Stuttgart) lieferte hierfür neuartige optische Elemente zur Präzisionsmessung der EUV-Spiegel.

CATRENE Innovation Award 2012