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BMBF-Verbundprojekt EXEPT zu neuartiger Chipherstelltechnologie erfolgreich beendet

29. Oktober 2012

Carl Zeiss liefert erste EUV-Lithografie-Optiken aus.

Das von Carl Zeiss geführte Verbundprojekt „Lithografie für den 22-Nanometer-Knoten“ ist erfolgreich abgeschlossen. In diesem nationalen Projekt – eingebettet in das vom niederländischen Unternehmen ASML geführte europäische EXEPT-Projekt („Extreme UV Lithography Entry Point Technology Development“) als Teil des CATRENE-Clusters – haben zwei Carl Zeiss Unternehmen und sechs weitere deutsche Firmen und Forschungseinrichtungen die EUV-Lithografie von der Grundlagenforschung zu einer voll einsetzbaren Technologie für die Serienproduktion von Mikrochips am 22-Nanometer-Knoten weiterentwickelt.
Die Partner hatten im Rahmen des Verbundprojektes das für den Lithografieprozess benötigte Projektionssystem sowie die erforderliche Infrastruktur erarbeitet. So stellte die Carl Zeiss SMT GmbH (Oberkochen) unter anderem ein leistungsfähigeres Projektionsobjektiv, ein hochflexibles, energetisch verlustfreies Beleuchtungssystem sowie zu deren Qualifizierung erforderliche Messsysteme höchster Präzision bereit. IMS Chips (Stuttgart) lieferte hierfür neuartige optische Elemente zur Präzisionsmessung der EUV-Spiegel.

Weiter Informationen zum Verbundprojekt EXEPT finden Sie in der Pressemitteilung.