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Verbundprojekt ETIK fĂĽhrt Entwicklung der EUV-Lithografie weiter

30. August 2012

Förderung des Bundesministeriums für Bildung und Forschung vereint Expertenwissen zu innovativer Technologie.

Unter der Konsortialführerschaft von Carl Zeiss ist ein neues Verbundprojekt gestartet, das vom Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) gefördert wird. Im Fokus steht die EUV- Lithografie, bei der extrem ultraviolettes (EUV) Licht zur Strukturierung von Mikrochips eingesetzt wird. Diese neuartige Technologie soll Ende dieses Jahres die Serienreife erreichen und Strukturen um 20 Nanometer übertragen können. Das Verbundprojekt ETIK („EUV-Projektionsoptik für 14-nm-Auflösung“) geht noch einen bedeutsamen Schritt weiter. Es zielt darauf ab, die mit der EUV-Lithografie erreichbare Auflösung auf mindestens 14 Nanometer zu verbessern.
IMS CHIPS trägt durch die Bereitstellung leistungsfähiger optischer Bauelemente zur Gewährleistung der Qualität des Projektionsobjektives bei.

Weiter Informationen zum Verbundprojekt ETIK finden Sie in der Pressemitteilung.