Aktuelles
 

News - Archiv

SPIE Photomask Technology 31st Annual Symposium 2011

19. - 22. September 2011

Donnerstag 22.09.2011; Session 24, New Mask Making and Alternatives II

Invited Paper von Florian Letzkus
Si stencil masks for organic thin fi lm transistor fabrication (Invited Paper)
Jörg Butschke, Tarek Zaki, Harald Richter, Joachim N. Burghartz, Institut für Mikroelektronik Stuttgart; Hagen Klauck, Frederik Ante, Max-Planck-Institut für Festkörperforschung


Weitere Informationen finden Sie unter: http://spie.org/photomask.xml

Ort: Monterey Marriott and Monterey Conference Center, CA, USA