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Best Paper Award auf der Photomask Japan 2006

21. November 2006

In einer Zusammenarbeit von Schott Lithotec, Meiningen, Zeiss SMS, Oberkochen, IMEC, Belgien und dem Institut für Mikrolelektronik Stuttgart wurden phasenschiebende Fotomasken (PSM) auf der Basis eines neuen Zwischenschichtmaterials bestehend aus Ta/Sio2 gefertigt und bewertet. Das Paper „Comparative Study of Bi-Layer Attenuating Phase-Shift Mask for Hyper-NA Lithography“ erhielt dafür den Best Paper Award auf der Photomask Japan 2006.