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EXEPT – EUV Lithografie für den 22 nm Knoten

22. Juli 2009

Das im europäischen Förderprogramm CATRENE beantragte Projekt EXEPT - EXtreme uv lithography Entry Point Technology Development - wurde unter dem Label CT301 zum 1. Mai 2009 mit einer Laufzeit von 3 Jahren gestartet. In Deutschland wird das Projekt durch das Bundesministerium für Bildung und Forschung gefördert.

Ziel des Projektes ist die Entwicklung von Technologien, Geräten und Infrastruktur für den Produktionseinsatz der EUV-Lithografie für den 22 nm Knoten. An dieser Aufgabe arbeiten mehr als 10 Forschungseinrichtungen und Firmen aus Deutschland und Europa zusammen.

Am Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS) werden Strukturierungsverfahren für eine neue Generation von diffraktiven optischen Elementen (DOE) entwickelt, die zur Prüfung und Fertigung hochgenauer EUV-Scanner-Optiken benötigt werden.


Weitere Informationen finden Sie unter: www.catrene.org/web/projects/project_list.php