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53rd International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology & Nanofabrication

26. - 29. Mai 2009

Das IMS ist mit einem "Invited Talk" auf der EIPBN 2009 in Florida, USA vertreten.

Mathias Irmscher
28.05, 10:50 / Session 4A /Maskless Lithography

Programmable Aperture Plate System With Integrated CMOS Electronics for Projection Maskless Nanolithography and Nanopatterning
Christof Klein*, Elmar Platzgummer*, Hans Loeschner*, Florian Letzkus**, Michael Jurisch**, Mathias Irmscher**, Martin Witt***, Wolfgang Pilz***

* IMS Nanofabrication – Vienna, Austria
** IMS Chips – Stuttgart, Germany
*** FhG ISiT – Itzehoe, Germany

Das IMS ist zusätzlich mit einem Stand (Stand 2) bei der diesjährigen EIPBN vertreten.


Weitere Informationen finden Sie unter www.eipbn.org

Ort: Marco Island Marriott Beach Resort, Florida, USA; (Stand 2)