Aktuelles
 

News - Archiv

IMS CHIPS auf der SPIE Advanced Lithography 2009

22. - 27. Februar 2009

Das IMS präsentiert sich auf einem Gemeinschaftstand (Stand 116) mit NIL Technology bei der diesjährigen SPIE Advanced Lithography in San Jose.

IMS CHIPS ist zusätzlich mit einem Vortrag vertreten.

Mittwoch, 25. Februar 2009

"Evaluation of the CD-SEM Vistec LWM90xx for line width measurement of nanoimprint templates"

Marcus Pritschowa, Joerg Butschkea, Mathias Irmschera, Lidia Parisolib, Toshihide Obac, Toshimichi Iwaic, Takayuki Nakamurac

a IMS Chips, Allmandring 30a, D-70569 Stuttgart, Germany
b Vistec Semiconductor Systems GmbH, Kubacher Weg 4, D-35781 Weilburg, Germany
c Advantest Corporation, Otone R&D Center, 1-5, Shin-tone, Otone-machi, Kitasaitama-gun, Saitama 349-1158, Japan


Weitere Informationen finden Sie unter: spie.org/advanced-lithography.xml

Ort: Stand 116, Convention Center, San Jose, California, USA