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Poster Award auf der SPIE Photomask Conference 2008 in Monterey, USA

10. Oktober 2008

Auf der diesjährigen SPIE Photomask Conference vom
6 - 10 Oktober in Monterey, CA, USA sind zwei IMS-Beiträge mit dem Poster Award ausgezeichnet worden.

Erste Preis für das Paper:

Deflection Unit for Multi-Beam Mask Making
von Florian Letzkusa, Joerg Butschkea, Mathias Irmschera, Michael Jurischa, Christof Kleinb, Wolfram Klinglera, Hans Löschnerb, Elmar Platzgummerb, Reinhard Springerb
aIMS Chips, Allmandring 30a, 70569 Stuttgart, Germany
bIMS Nanofabrication AG, Schreygasse 3, A-1020 Vienna, Austria

Sowie ein zweiter Preis für das Paper:

Mask patterning for the 22nm node using a proton multi-beam projection pattern generator
von Joerg Butschkea, Mathias Irmschera, Holger Sailera, Lorenz Nedelmanna, Marcus Pritschowa, Hans Loeschnerb, and Elmar Platzgummerb
aIMS Chips, Allmandring 30a, 70569 Stuttgart, Germany
bIMS Nanofabrication AG, Schreygasse 3, A-1020 Vienna, Austria