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The 61st International Conference on Electron, Ion, and Photon Beam Technology and Nanofabrication
30. Mai - 02. Juni 2017
Das IMS ist mit einem Poster auf der EIPBN 2017 in Orlando, USA, vertreten.
Poster Session – Session 1 & Best Poster Competition und Session 2
Mittwoch, den 31.05.2017, 10:30 Uhr und 17:45
Electron-beam Exposure Dependent and Adjustable Sidewall Slopes of PMMA and ZEP520A in Comparison
Corinna Kaspar, Joerg Butschke, Mathias Irmscher,
Stephan Martens, Joachim Burghartz, Vitaliy Guzenko,
Robert Kirchner and Helmut Schift
Weitere Informationen finden Sie unter: http://eipbn.org/
Ort: Walt Disney World Coronado Springs Resort, 1000 Buena Vista Drive, Lake Buena Vista, Orlando, FL, USA
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