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BMBF-Verbundprojekt ETIK zur Weiterentwicklung der EUV-Lithographie erfolgreich beendet

04. März 2016

Verbesserung der mit EUV erzielten Auflösung

Das unter der Konsortialführerschaft von ZEISS geführte Verbundprojekt ETIK „EUV-Projektionsoptik für 14-Nanometer-Auflösung“ ist erfolgreich abgeschlossen. Im Fokus stand die EUV-Lithographie, bei der extrem ultraviolettes Licht (EUV) zur Strukturierung von Mikrochips eingesetzt wird. In diesem Verbundprojekt haben ZEISS und sechs weitere deutsche Firmen und Forschungseinrichtungen die mit der EUV-Technologie erreichbare Auflösung weiter verbessert. Dadurch tragen die Konsortialpartner entscheidend zum Anspruch der Halbleiterindustrie bei, Mikrochips immer kleiner, effizienter und preiswerter bereitzustellen. Das Projekt wurde vom Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) mit insgesamt sieben Millionen Euro gefördert.
IMS CHIPS trug durch die Bereitstellung leistungsfähiger optischer Bauelemente zur Gewährleistung der Qualität des Projektionsobjektives bei.

Weiter Informationen zum Verbundprojekt ETIK finden Sie in der Pressemitteilung.