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Micro Nano Engeneering – MNE 2009

28. September - 01. Oktober 2009

Vortrag von H. Sailer

A fast evaluation method for high-resolution ebeam resist process optimization

A. Barcz, J. Butschke, M. Irmscher, S. Martens

IMS Chips, Allmandring 30a, D-70569 Stuttgart, Germany


Weitere Informationen finden Sie unter: http://www.mne09.org

Ort: ICC Gent, Gent, Belgien