GeschÀftsfelder
 

Übersicht

Im IMS wird die Elektronenlithografie fĂŒr das Schreiben hochaufgelöster, komplexer Strukturen bereits mit der dritten GerĂ€tegeneration genutzt.

E-Beam Schreiber Vistec SB352 HR

Der E-Beam-Schreiber Vistec SB352 HR sowie die IMS-Infrastruktur ermöglichen die Generation von Strukturen auf Wafern und Quartzsubstraten verschiedener GrĂ¶ĂŸe.












Die E-Beam Lithografie wird am IMS fĂŒr die Entwicklung und Herstellung fortgeschrittener Masken, mikromechanischer und optischer Elemente sowie fĂŒr das Direktschreiben von CMOS-Schaltungen eingesetzt.

Hamatech Resist Track fĂŒr 150 – 300 mm Wafer


Bauelemente, Technologien und Prozesse werden in enger Kooperation mit unseren Kunden entwickelt. Das industrielle Niveau der IMS-Linie ermöglicht die qualifizierte Produktion der entwickelten Komponenten.

Eine vollstĂ€ndige Auflistung aller am IMS verfĂŒgbaren Halbleiterprozesse finden Sie unter Arbeitsgebiete - Technologie Dienstleistungen

Oerlikon Masken Ätzer

Kontakt
FĂŒr weitere Informationen steht ihnen Mathias Irmscher zur VerfĂŒgung.