Übersicht

Im IMS wird die Elektronenlithografie für das Schreiben hochaufgelöster, komplexer Strukturen bereits mit der dritten Gerätegeneration genutzt.

E-Beam Schreiber Vistec SB352 HR

Der E-Beam-Schreiber Vistec SB352 HR sowie die IMS-Infrastruktur ermöglichen die Generation von Strukturen auf Wafern und Quartzsubstraten verschiedener Größe.












Die E-Beam Lithografie wird am IMS für die Entwicklung und Herstellung fortgeschrittener Masken, mikromechanischer und optischer Elemente sowie für das Direktschreiben von CMOS-Schaltungen eingesetzt.

Hamatech Resist Track für 150 – 300 mm Wafer

Bauelemente, Technologien und Prozesse werden in enger Kooperation mit unseren Kunden entwickelt. Das industrielle Niveau der IMS-Linie ermöglicht die qualifizierte Produktion der entwickelten Komponenten.

Eine vollständige Auflistung aller am IMS verfügbaren Halbleiterprozesse finden Sie unter Arbeitsgebiete - Technologie Dienstleistungen

Oerlikon Masken Ätzer

Kontakt

Für weitere Informationen steht ihnen Julian Hartbaum zur Verfügung.