Der E-Beam-Schreiber Vistec SB352 HR sowie die IMS-Infrastruktur ermöglichen die Generation von Strukturen auf Wafern und Quartzsubstraten verschiedener Größe.
Die E-Beam Lithografie wird am IMS für die Entwicklung und Herstellung fortgeschrittener Masken, mikromechanischer und optischer Elemente sowie für das Direktschreiben von CMOS-Schaltungen eingesetzt.