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Projekt zur Herstellung grossflächiger Si-Energiefiltermembranen gestartet

03. November 2017

In einem gemeinsamen ZIM Förder­projekt entwickeln IMS CHIPS und das junge StartUp Unternehmen mi2-factory aus Jena Technologieprozesse für die Hochenergie-Ionenimplantation von SiC Leistungshalbleitern. Dabei liegt der Schwerpunkt der Entwicklungsarbeiten in Stuttgart bei der Herstellung von gross­flächigen und hochpräzisen Si-Membranmasken, sogenannten Energie­filtermembranen.
Das Verfahren der energiegefilterte Einzel­wafer Ionenimplanation wurde von dem Unternehmen mi2 factory entwickelt und erfolgreich für die Herstellung von SiC Leistungsbauelementen angewendet.
Die Entwicklungsschwerpunkte für die IMS CHIPS Ingenieure werden in den nächsten Jahren auf den Themenkomplexen: Ausbeute, Defektfreiheit, Ausgangswafer und stressoptimiertem Layout liegen.

Fördergeldgeber: AIF Projekt GmbH
Förderkennzeichen: ZF4429201GM7

mi2-factory