Aktuelles
 

News - Archiv

Photomask and NGL Mask Technology XVII

13. - 15. April 2010

Das IMS ist mit einem Poster auf der Photomask and NGL Mask Technology XVII 2010 in Yokohama, Japan vertreten.

W-CMOS Blanking Device for Projection Multi-Beam Lithography

Michael Jurisch, Mathias Irmscher, Florian Letzkus, Elmar Platzgummer*, Christof Klein*, Hans Löschner*

IMS CHIPS, Stuttgart, Germany, * IMS Nanofabrication AG, Vienna, Austria



Weitere Informationen finden Sie unter www.photomask-japan.org

Ort: Annex Hall, Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan