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Erneut Paper Award auf der SPIE Photomask Conference 2009 in Monterey, USA

07. Dezember 2009

Auf der diesjährigen SPIE Photomask Conference vom 14 - 17 September in Monterey, CA, USA wurde der Beitrag des Multi-Beam Konsortiums bestehend aus IMS Nanofabrication AG, IMS Chips und FhG ISIT mit einem Paper Award ausgezeichnet.

Dritter Platz für das Paper:

"Charged Particle Multi-Beam Lithography Evaluations for sub-16nm hp Mask Node Fabrication and Wafer Direct Write"

Elmar Platzgummera, Christof Kleina, Peter Joechla, Hans Loeschnera, Martin Wittb, Wolfgang Pilzb, Joerg Butschkec, Michael Jurischc, Florian Letzkusc, Holger Sailerc, Mathias Irmscherc

a) IMS Nanofabrication AG, Schreygasse 3, A-1020 Vienna, Austria

b) Fraunhofer Institute for Silicon Technology (ISIT), Itzehoe, Germany

c) Institut für Mikroelektronik Stuttgart (IMS CHIPS), Stuttgart, Germany