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Photomask and NGL Mask Technology XVI

08. - 10. April 2009

Das IMS ist mit einem Poster auf der Photomask and NGL Mask Technology XVI 2009 in Yokohama, Japan vertreten.

Go Proton: Investigation on Mask Patterning for the 22nm hp Node using a ML2 Multi Beam System
Joerg Butschke, Mathias Irmscher, Holger Sailer, Hans Loeschner*, Elmar Platzgummer*,

IMS CHIPS, Stuttgart, Germany, * IMS Nanofabrication AG, Vienna, Austria



Weitere Informationen finden Sie unter www.photomask-japan.org

Ort: Annex Hall, Pacifico Yokohama, Yokohama, Japan