Arbeitsgebiete
 

Replikationsmaster

Wir bieten die Herstellung von Mastern mit der erforderlichen ProfilqualitĂ€t fĂŒr ein High-Yield-Replikationsverfahren. Der Master kann aus Silizium oder Quarz bestehen, die Auflösungsgrenze liegt bei 60 nm Dense Lines, und die StrukturgrĂ¶ĂŸe ist lediglich durch die GrĂ¶ĂŸe des Substrats (einen Wafer mit einem Durchmesser von 150 mm oder einer 9-Zoll-Quarzplatte) begrenzt.

Master mit komplexem Gitter strukturiert auf einer 9-Zoll-Platte

Features in verschiedenen GrĂ¶ĂŸen auf einer 800 nm dicken OberflĂ€chen- beschichtung eines SOI-Halbleiters

500 nm-SĂ€ulen, 1,5 μm Höhe auf einem Siliziumsockel mit 15 μm Höhe

Kontakt
FĂŒr weitere Informationen steht ihnen Mathias Irmscher zur VerfĂŒgung.